北方華創14納米 Hardmask PVD設備成功進入國際主流生產線驗證

TiN Hardmask PVD是集成電路制程中的一道重要工藝步驟，北方華創微電子基于多年集成電路PVD設備技術積累，針對性開發了exiTin Ⅱ H430 PVD設備，用于14 納米TiN Hardmask薄膜沉積工藝，設備以全新的設計理念實現了多項技術突破。

作為中國集成電路制造設備的先行者，北方華創微電子秉持以客戶需求為導向的持續創新理念，深耕發展，開拓創新，不斷為集成電路產業提供設備技術支撐。